国家知识产权局信息显示，深圳市高阶新材料科技有限公司申请一项名为“一种新型极薄铜镍合金箔及其制备方法”的专利，公开号CN122494666A，申请日期为2026年5月。
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专利摘要显示，本发明涉及锂电池集流体技术领域，具体涉及一种新型极薄铜镍合金箔及其制备方法，该新型极薄铜镍合金箔通过在铜箔层一侧附着镍含量大于 40wt% 的带镍金属箔层，利用镍金属的特性改善传统铜箔在厚度减薄后抗拉强度下降、延展率降低的问题，提高合金箔的整体性能，厚度更薄、抗拉强度更高，且维持较高的延展率，为电池内部活性物质的填充提供了更多空间，从而提高了电池的体积能量密度，有利于实现电池的小型化和高能量化，满足高端锂电池对高强度集流体的需求，尤其适用于体积膨胀/膨胀力较大的电池负极体系。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员